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金相試樣的制備,這都是基礎知識 發(fā)布時(shí)間:2020-09-15   瀏覽量:2039次

要對金屬材料的顯微組織進(jìn)行觀(guān)察,首先就必須制備金相試樣。一般金相試樣的制備過(guò)程包括取樣、鑲嵌、磨制、拋光、浸蝕等步驟。


1.取樣


取樣時(shí)應根據零件的特點(diǎn)及檢驗目的分別選取具有代表性的部位。例如,分析機械零件失效原因時(shí)應在破壞最嚴重處和遠離破裂處分別切取,從而有利于觀(guān)察顯微組織的變化,分析失效的原因。研究鑄件組織時(shí),由于組織的不均勻性,應從表層到中心同時(shí)切取


幾個(gè)試樣,分析各個(gè)部位顯微組織的差異,了解結晶組織的變化。研究退火處理的機械零件時(shí),由于其內部組織比較均勻,可切取任意截面試樣進(jìn)行分析。切取試樣時(shí),應小心操作,不得因加工過(guò)熱而改變其組織。取樣的常用方法有:鋸、車(chē)、


刨、氣割、砂輪切割和線(xiàn)切割等。試樣的大小視具體情況而定,以便于握持、易于磨制為準。通常方形試樣的邊長(cháng)為12~15mm,圓柱形試樣尺寸為¢(12~15mm)×15mm。


2.鑲嵌


對于細小和形狀特殊的試樣(如絲、帶、片等),不便于磨制和拋光時(shí),須將其鑲嵌在塑料及低熔點(diǎn)的合金中或用專(zhuān)用夾具夾持,以便進(jìn)行磨制和拋光操作。鑲樣多采用熱壓鑲樣法和機械鑲樣法。熱壓鑲樣法是將試樣放在電木粉或塑料粒中加熱至110~150℃,在鑲樣機中熱壓完成。機械鑲樣法的優(yōu)點(diǎn)是使用專(zhuān)門(mén)的夾具夾持試樣以克服熱壓對試樣組織產(chǎn)生的影響。


3.磨制


磨制試樣是為了得到平整的磨面,為拋光做準備。磨制分為粗磨和細磨。


粗磨:用銼刀、砂輪或粗砂紙將試樣表面磨平、修整成平整合適的形狀,不做表面層金相檢驗的試樣應倒角,以免拋光時(shí)撕裂拋光布。注意磨制時(shí)應不斷用冷卻液進(jìn)行冷卻以免試樣表面過(guò)分發(fā)熱而引起內部組織變化。


細磨:試樣的細磨一般在由粗到細的金相砂紙上進(jìn)行,細磨的目的是為了消除粗磨過(guò)程中產(chǎn)生較粗、較深的磨痕,為拋光作好準備。手工操作時(shí)應注意,將砂紙平鋪在玻璃板上,一手將砂紙按住,一手將試樣輕壓在砂紙上,向一個(gè)方向推進(jìn)。細磨時(shí),從粗砂紙到細砂紙依次進(jìn)行(金相砂紙標號依次為W50、W28、W14、W10、W5號五級);每更換一次砂紙,試樣須轉90度與前次磨制方向垂直并保持一個(gè)方向磨至舊磨痕完全消失,新磨痕均勻一致時(shí)為止;每次磨制后更換新砂紙前,試樣必須用清水沖洗,以免上一道工序的粗沙礫帶到細砂紙上而形成深的劃痕。磨削時(shí)不可用力過(guò)重,否則容易產(chǎn)生過(guò)深的劃痕。


4.拋光


細磨后的試樣用水沖洗后就可進(jìn)行拋光。拋光的目的是去除試樣磨面上經(jīng)細磨所產(chǎn)生的均勻而細微的劃痕,使檢驗面呈光亮的鏡面。


機械拋光在金相試樣拋光機上進(jìn)行,拋光機的電動(dòng)機帶動(dòng)拋光盤(pán)高速旋轉。拋光時(shí)要握緊試樣,將被磨面輕壓在旋轉的拋光盤(pán)上,用力要輕,并應使試樣沿著(zhù)拋光盤(pán)半徑方向上來(lái)回移動(dòng),要不斷地在拋光盤(pán)上加拋光液(拋光液是微粒磨料加水而成的懸浮液),拋光時(shí)間不宜太長(cháng),到劃痕完全消失為止。拋光后的試樣表面用水沖洗干凈,浸以酒精備用。不論采用何種方法切取的試樣經(jīng)粗磨、細磨、拋光后加工影響面(損傷層)逐漸消除,得到平整光滑的磨面。


拋光好的磨面如鏡面,在低倍顯微鏡下觀(guān)察應沒(méi)有明顯的刻痕和蝕坑,這時(shí)就可以進(jìn)行浸蝕。


 5.浸蝕


拋光后的試樣在金相顯微鏡下觀(guān)察,只能看到光亮的表面及某些非金屬夾雜物。要想觀(guān)察金屬的顯微組織,則必須用浸蝕劑浸蝕試樣表面。最常用的浸蝕方法是化學(xué)浸蝕法。浸蝕時(shí)可用棉花蘸上浸蝕劑在磨面上輕輕擦試,或將磨面完全浸入浸蝕劑中。浸蝕時(shí)間一般由浸蝕劑濃度及金屬材料本身而定。若選45鋼試樣,則浸蝕劑選用4%的硝酸酒精溶液,浸蝕的時(shí)間為8~15s(浸蝕時(shí)間與浸蝕劑濃度有很大關(guān)系)。若浸蝕不足可繼續浸蝕;但浸蝕過(guò)度則需重新拋光。對于不同的材料,可選用不同的浸蝕劑,其選用可查相關(guān)手冊。


對于純金屬或單相合金而言,浸蝕仍是一個(gè)純化學(xué)溶解過(guò)程。由于晶界處缺陷和雜質(zhì)較多,原子排列混亂且具有較高的自由能,易被浸蝕而呈凹陷;同時(shí)每個(gè)晶粒中原子排列的位向不同,各自的溶解速度也各不相同,致使被浸蝕的深淺程度也有區別。因此在顯微鏡下觀(guān)察時(shí),反射光線(xiàn)變化較大:晶界處的反射光線(xiàn)發(fā)生散射沒(méi)有進(jìn)入顯微鏡物鏡而呈黑色;晶粒未被浸蝕,反射光線(xiàn)垂直進(jìn)入顯微鏡物鏡故呈白亮色。所以,在顯微鏡下觀(guān)察到黑色的晶界和白色(各晶粒之間略有差異)的晶粒。對于兩相以上的合金組織,浸蝕主要是一個(gè)電化學(xué)腐蝕過(guò)程。由于各組成相的成分不同,具有不同的電極電位,當試樣浸入具有電解液作用的浸蝕劑時(shí),就在兩相之間形成無(wú)數對“微電池”:具有負電位的組成相成為陽(yáng)極,它被迅速腐蝕而呈凹洼;具有正電位的另一組成相成為陰極,在正常的電化學(xué)作用下不受浸蝕而保持原有的光滑表面。當入射光線(xiàn)照射到凹凸不平的試樣表面時(shí),由于各處對光線(xiàn)的反射程度不同,在金相顯微鏡下就能觀(guān)察到各種不同的組成相。試樣經(jīng)過(guò)浸蝕后,立即用清水沖洗,然后用酒精棉球擦拭并吹干,至此金相試樣的制備工作全部結束,即可在顯微鏡下進(jìn)行組織觀(guān)察和分析研究。


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